真空压力法氦质谱检漏
采用真空压力法检漏时，需要将被检产品整体放入真空密封室内，真空密封室与辅助抽空系统和检漏仪相连，被检产品的充气接口通过连接管道引出真空密封室后，再与氦气源相连，当被检产品表面有漏孔时，氦气就会通过漏孔进入真空密封室，再进入氦质谱检漏仪，从而实现被检产品总漏率的测量。真空压力法的缺点是检漏系统复杂，需要根据被检产品的容积和形状设计真空密封室。
真空压力法的优点是检测灵敏度高，能实现任何工作压力的漏率检测，反映被检件的真实泄漏状态。
真空压力法的缺点是检漏系统复杂，需要根据被检产品的容积和形状设计真空密封室。这里需要说明在检漏过程要求确保充气管道接口无泄漏，或者采取特殊的结构设计将所有充气管道连接接口放置在真空密封室外部。
真空压力法的检测标准有GB /T 15823-2009《氦泄漏检验》，主要应用于结构简单、压力不是特别高的密封产品，如电磁阀、高压充气管道、推进剂贮箱、天线、应答机、整星产品等。
为试漏区配备足够的通风条件
检漏气体氦/ 氢如果泄露，就会像气球一样飞到试漏区的室顶，并逐渐漂满整个试漏区。'本底”6、逐个将氦气充入焊缝，并封堵插入口，将数值变动记录下来。纵然所有连接件是完全密闭的，但在连接或拆卸的过程中难免会释放少量的检漏气体。因此，为试漏区配备足够的通风条件是非常重要的。由于两种检漏气体均有向上运动的趋向，建议从底部送入新鲜空气和从顶部排放气体至室外。
在试漏区避免穿堂风对吸枪的影响
通常在生产环境中，在不同的区域之间由于温差、风扇或其它形成空气流动因素出现而导致空气的流动，而任何空气流动对于检漏能力都具有一定的作用，因为被检测的气体将被穿堂风吹离吸枪探尖的开口为取得良好的测试结果，试漏区应屏蔽这些风带来的不良影响。
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氦气在在半导体中的检漏作用
为了防止半导体器件、集成电路等元器件的表面因玷污水汽等杂质而导致性能退化，就必须采用管壳来密封。充注检漏气体前，试件必须抽空为正确试漏，在充注检漏气体前将试件预抽空是完全必要的，特别是对几何形状长和窄的试件尤为重要。但是在管壳的封接处或者引线接头处往往会因为各种原因而产生一些肉眼难以发现的小洞，所以在元器件封装之后，就需要采取某些方法来检测这些小洞的存在与否。 氦气检漏就是采用氦气来检查电子元器件封装管壳上的小漏洞。因为氦原子的尺寸很小，容易穿过小洞而进入到管壳内部，所以这种检测方法能够检测出尺寸很小的小洞（即能够检测出漏气速率约为10?11～10?12cm3/sec的小洞），灵敏度可与性检漏方法匹敌，但要比性检漏方法简便。
氦气检漏试验的方法：首先把封装好的元器件放入充满氦气的容器中，并加压，让氦气通过小洞而进入管壳中；然后取出，并用压缩空气吹去管壳表面的残留氦气；接着采用质谱仪来检测管壳外表所漏出的氦气。
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